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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2006년도 춘계학술대회 논문요약집
발행연도
2006.5
수록면
155 - 156 (2page)

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UV-NIL is a promising technology for the fabrication of sub-100 nm features. Due to non-uniformity of the residual layer thickness (RLT) and a strong possibility of defects, many UV-NIL processes have been developed and some are commercially available at present, most are based on the “step-and-repeat” nanoimprint technique, which employs a small-area stamp, much smaller than ... 전체 초록 보기
#UV nanoimprint(광경화 나노임프린트) #Low vacuum environment(저진공 환경) #Additive air pressure(부가적 공기압)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 본론
3. 결론
참고문헌

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