UV 나노 임프린트 공정에서 스탬프 균일 변형을 위한 더미 블록 설계

김남웅; 김국원; 정태은; 신효철

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김남웅 김국원 정태은 신효철

저널정보: 한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회 논문집 Vol.17 No.5

발행연도: 2008.10

수록면: 76 - 81 (6page)

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Nanoimprint lithography(NIL) is an emerging technology enabling cost-effective and high-throughput nanofabrication. Among NILs, significant efforts from both academia and industry have been put in UV NIL research and development because of its ability to pattern at room temperature and at low pressure. In UV NIL, there may be in-line set-up error of the stamp and the substrate. To compensate this error, the dummy blocks are put on the stamp and pressurized uniformly. Contact problems between the stamp and the photoresist layer on the substrate are often happened, which results in the non-uniform residual layer. In this paper, the pressurization method on the dummy block is investigated by the finite element method. A new method is recommended and evaluated for the uniform stamp deformation.

#UV Nanoimprint(UV 나노임프린트) #Uniform Stamp Deformation(스탬프 균일 변형) #Dummy Block(더미 블록) #Finite Element Method(유한요소법)

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1. [학술지(정기간행물)] - Chou, S. / 1997 / Imprint lithography with sub-10nm feature size and high throughput / Microelectronic Engineering 35 : 237 ~ 240

2. [학술지(정기간행물)] - Guo, L. J. / 2004 / Recent progress in nanoimprint technology and its applications / Journal of Physics D: Applied Physics 37 : 123 ~ 141

3. [학술지(정기간행물)] - Schulz, H. / 2006 / Impact of molecular weight of polymers and shear rate effects for nanoimprint lithography / Micro-electronic Engineering 83 : 259 ~ 280

4. [학술지(정기간행물)] - Ruchhoeft, P. / 1999 / Patterning curved surfaces: Template generation by ion beam proximity lithography and relief transfer by step and flash imprint lithography / J. Vac. Sci. Technol. B 17 : 2965 ~ 2969

5. [학술지(정기간행물)] - Resnick, D. J. / 2003 / Imprint lithography for integrated circuit fabrication / J. Vac. Sci. Technol. B 21 : 2624 ~ 2631

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