대면적 나노임프린트 리소그래피에 사용되는 기점마크를 이용한 정렬과정의 오차원인 분석

박인수; 박영걸; 이민규; 신동훈; 이기성; 장시열; 임홍재; 정재일

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저자정보: 박인수 박영걸 이민규 신동훈 이기성 장시열 임홍재 정재일

저널정보: 대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2006년도 추계학술대회 강연 및 논문 초록집

발행연도: 2006.11

수록면: 83 - 88 (6page)

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Several error sources are analyzed when aligning flexible glasses into the target position used in nano-imprint lithography. When aligning a mold and a target glass, two fiducial marks on each are typically used with machine vision camera in order to eliminate relative positional error. However, the flexibility of the glass and mold can cause error in relative position between two fiducial marks. We investigate these error sources in this work: difference of refraction rates between mold, resin, and the target glass; angular inclination of glasses; shape distortion of the marks due to glass deformation from the gravity. Finally, the design values are suggested as a guidance for designing fiducial marks.

#Alignment(정렬) #Nanoimprint Lithography(나노임프린트 리소그래피) #Fiducial mark(기점마크) #machine vision(머신비전) #Error analysis(오차분석)

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