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논문 기본 정보
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- 학술대회자료
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- 발행연도
- 2005.5
- 수록면
- 147 - 151 (5page)
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In this paper, Sm-Fe thin films of 1000A thickness are fabricated by DC magnetron sputtering. Sm-Fe thin films are prepared by DC magnetron sputtering method in the composition of SmxFe1-x (x = 0.4). The thin films are deposited to a thickness of 1000A on Si substrate with a thickness of 50m. The fabricated microstructures are observed by X-ray diffraction (XRD) and the film thickness is measured by using a Ellipsometer. The compositions of sputtered thin films are examined by energy dispersive spectroscopy (EDS). Magnetostrictions are determined from the curvature of the thin films which are measured by the optical cantilever method. The experimental results are discussed with numerical data.
목차
Abstract
1. Introduction
2. Finite Elements for Magnetostriction
3. Fabrication of Magnetostrictive Thin Film Actuators
4. Measurements of Magnetostrictions
5. Result
6. Conclusion
References
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