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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제40권 제6호
발행연도
2007.12
수록면
245 - 249 (5page)

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Amorphous IZO films were deposited on PET substrate by DC magnetron sputtering without substrate heating. In order to investigate effect of reactive gas addition on film properties, 0.2-0.4% of H₂ or O₂ gas was introduced during the deposition. Deposited IZO films were evaluated with mechanical property, electrical property, and water permeability. In the case of H₂ gas addition, mechanical property showed clear degradation compared to O₂ g as. In t he c ase of O₂ gas, water permeability of the IZO film was increased compared to H₂ gas which could be attributed to the low adhesion of the film caused by bombardment of high energy negative oxygen ion. As a result, it is confirmed that water permeability of the film could be strongly affected by adhesion of the film.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (19)

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