지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .11
Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
$Cl_2$-ICP를 이용한 Doped GaN 식각의 공정변수적 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 및 InP의 건식 식각에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
1999 .09
유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
Cl₂ 유도결합 플라즈마를 이용한 SBT 박막의 식각특성
전기학회논문지 C
2001 .05
자화 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
2000 .04
p-GaN/AlGaN/GaN E-mode FET 제작을 위한 선택적 GaN 식각 공정 개발
한국정보통신학회논문지
2020 .02
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향
전기학회논문지 C
2000 .08
Cl₂/HBr,Cl₂/N₂ 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 식각 공정시 발생하는 결함의 거동에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
Inductively Coupled chlorine-Based Plasma Etching of the GaN for Optoelectronic Device Application
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구 ( Studies on Chemical Wet Etching of GaN )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
0