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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제41권 제4호
발행연도
2008.8
수록면
134 - 141 (8page)

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We have developed a numerical model for a remote ICP(inductively coupled plasma) system in 2D and 3D with gas distribution configurations and confirmed it by plasma diagnostics. The ICP source has a Cu tube antenna wound along a quartz tube driven by a variable frequency rf power source (1.9~3.2 ㎒) for fast tuning without resort to motor driven variable capacitors. We investigated what conditions should be met to make the plasma remotely localized within the quartz tube region without charged particles' diffusing down to a substrate which is 300 ㎜ below the source, using the numerical model. OES(optical emission spectroscopy), Langmuir probe measurements, and thermocouple measurement were used to verify it. To maintain ion current density at the substrate less than 0.1 ㎃/㎠, two requirements were found to be necessary; higher gas pressure than 100 mTorr and smaller rf power than 1 ㎾ for Ar.
#Numerical modeling #Inductively coupled plasma #CFD-ACE

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (11)

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1. [학술지(정기간행물)] - D. I. Fortiadis / 1990 / / J. Crystal Growth 102 : 441 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - S. Patnaik / 1989 / / J. Crystal Growth 96 : 153 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - Y. J. Kim / 2005 / / Surf. Coat. Technol 193 : 88 ~ google schola 4. [단행본] - / 2006 / Advanced Energy / Litmas RPS Manual : 1 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - S. Heil / 2008 / / J. Vac. Sci. Technol A 26 : 472 ~ google schola

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