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대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2009년도 재료 및 파괴부문 춘계학술대회 논문집
발행연도
2009.4
수록면
490 - 492 (3page)

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The residual stress of nano-scale aluminum thin films, which are deposited on relatively thick tensile silicon nitride membranes, was evaluated by resonance system. The system electrostatically actuated membranes and detected resonant frequency. Resonance frequency of aluminum film on membrane is converted to residual stress. Since aluminum film was deposited on silicon nitride membranes, composite stress ... 전체 초록 보기
#Thin film(박막) #Residual stress(잔유응력) #Resonance(공진) #Thermal cycle(열사이클)

목차

Abstract
1. 서론
2. 시험편 및 공진측정장치
3. Sinx의 잔류응력 측정
4. 알루미늄 박막의 잔류응력 측정
5. 결론
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