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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
〔참고문헌〕
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RTA에 따른 Sr0.7Bi2.3Nb₂O9 박막의 표면특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2013 .07
열산화 $Ta_{2}O_{5}$ 박막의 RTA후처리의 영향
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
열산화 T${a_2}{O_5}$박막에 미치는 RTA후처리의 영향
한국재료학회지
1993 .01
RTA시스템에서의 Water의 온도 Simulation과 제어방법 ( Water Temperature Simulation and Control Algorithm in RTA System )
대한전자공학회 학술대회
1987 .05
RTA 처리에 의해 결정화된 PZT박막의 Crack 발생에 대한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
O₂ RTA 방법으로 제조된 Ta₂O5-x 박막의 전기적 특성
전기학회논문지 C
2002 .08
RTA 공정을 이용한 Cu2ZnSnSe4 광흡수층 박막 제조
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2013 .05
반응로 벽면 반사효과를 고려한 RTA 설계 ( RTA design considered reactor side wall reflex effect )
대한전자공학회 학술대회
1988 .11
SBNO 박막의 특성에 미치는 RTA 영향
전기전자재료학회논문지
2012 .01
RTA에 적용이 가능한 붕소 확산 시뮬레이터의 제작
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
RTA에 적용이 가능한 붕소 확산 시뮬레이터의 제작 ( Design of Boron Diffusion Simulator Applicable for RTA )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
Slip 현상을 줄이기 위한 RTA ( 고속열처리 ) 장치 설계모델링 ( RTA System Design Modeling to Reduce Slip )
대한전자공학회 학술대회
1988 .07
금속 유도 측면 결정화를 이용한 박막 트랜지스터의 RTA 후속열처리 효과
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
Slip 현상을 줄이기위한 RTA(고속열처리)장치 설계모델링
대한전기학회 학술대회 논문집
1988 .07
RTA 시스템에서의 온도제어와 웨이퍼상의 온도분포 Simulation ( Temperature Control and Wafer Temperature Distribution Simulation in RTA System )
전자공학회논문지
1988 .06
실리콘을 이온주입한 갈륨비소의 RTA에 의한 활성화 특성 ( Activation Characteristics of Si-Implanted GaAs by RTA )
한국통신학회 학술대회논문집
1987 .01
실리콘을 이온주입한 칼륨비소의 RTA에 의한 활성화 특성 ( Activation Characteristics of Si-Implanted GaAs by RTA )
특정연구 결과 발표회 논문집
1987 .01
Slip 현상 및 공정소모 POWER를 최소화하기 위한 RTA 제작 ( RTA Development to Minimize SLIP and Process Power Consumption )
전자공학회논문지
1989 .07
RTA 후속 열처리에 의한 $Ta_{2}O_{5}-Si$ 계면 반응과 전기적 특성 변화
한국재료학회지
1995 .01
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