Effect of hydrogen in Ni-silicide with Iodine Catalyst Deposited Ni Film by using Atomic Layer Deposition

강희성 ,  하종봉 ,  김기원 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

On the atomic structure of deposited Ni on Ag(001) surface

이규섭 ,  김상현 ,  민항기 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .06

Nickel Silicide Nanowire Growth and Applications

Joondong Kim

한국진공학회 학술발표회초록집

2013 .02

60 ㎚ 와 20 ㎚ 두께의 수소화된 비정질 실리콘에 따른 저온 니켈실리사이드의 물성 변화

김종률 ,  박종성 ,  최용윤 외 1명

Applied Science and Convergence Technology

2008 .11

Silicidation Properties of Atomic Layer Deposited Nickel Film using by Rapid Thermal Process

Chang Young Kim ,  Sang-Won Yun ,  Jung Hee Lee 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2008 .08

Nickel silicide 형성시 열처리 온도에 따른 열적 안정성에 관한 연구

최일상 ,  김경원 ,  김종화 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .06

Epitaxial $SnO_2$ Thin Films on Sapphire($1\bar{1}02$) and ($11\bar{2}0$) Deposited by Atomic Layer Deposition

Kim ,  Dai-Hong ,  Hong 외 1명

한국결정학회 학술연구발표회

2007 .01

The schottky contact characteristics of atomic layer deposited ruthenium silicide with post annealing

Seung Chan HEO ,  Donghwan LIM ,  Young Jin KIM 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

The Effects of Ta on the Formation of Ni Silicide in Ni - Ta / Si Alloy System

도기훈 ,  이동원 ,  서동찬 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2004 .08

Atomic Layer Deposited Metal Thin Films on T-shirts

Han-Bo-Ram Lee

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Rapid growth of Nickel sulfide by atomic layer infiltration

Hyeon Seok Ji ,  Myung Mo Sung

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Ni Silicide Formation and the Crystalline Silicion Film Growth

김준동 ,  지상원 ,  박윤창 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .08

Self-Limiting Atomic Layer Deposition of Nickel Oxide and Nickel Sulfide Thin Films : Simultaneous Understanding of ALD Processing & Mechanism

Jaehwan Kim ,  Hyunbae Lee ,  Myeong-Hee Ko 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Thermally stable contact of Nickel Silicide between metal and GaN

지창순 ,  박승호 ,  박창수 외 8명

한국진공학회 학술발표회초록집

1998 .02

Controlling Surface and Film Structures on the Atomic Scale

M. Aono

한국진공학회 학술발표회초록집

1995 .02

Electrical Properties of Copper Oxide Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition

Byung Kook Lee ,  Jae Ki Min ,  Sun Sook Lee 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

합금 타겟을 사용한 SOI 기판에서의 Ni-Silicide 연구

김지영 ,  김초롱 ,  임재영 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2007 .02

Atomic Layer Deposited Nickel Sulfide Thin Film as an Alternative Counter Electrode in Dye-Sensitized Solar Cell

한규석 ,  성명모

한국진공학회 학술발표회초록집

2014 .08

Various Iron - silicide Formation in Fe / Si Multilayered Films

박주상 ,  이영백 ,  Y. V. Kud 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2002 .02

Characterization of atomic layer Deposited Nickel Oxide (NiO) by using HPN precursor

Taewook NAM ,  Donghyun KIM ,  Seungmin YEO 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08