초임계 이산화탄소를 이용한 웨이퍼의 건식 식각에서 알콜 첨가제의 효과

김도훈 ,  장명재 ,  임권택

청정기술

2012 .09

HF 증기상 식각과 열처리를 이용한 다결정 규소 미세 구조체의 제작

박경호 ,  이춘수 ,  정영이 외 5명

대한전기학회 학술대회 논문집

1995 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

모바일 디스플레이용 유리 기판의 미 식각부 두께 최소화를 위한 습식식각 공정조건 최적화

유승기 ,  김재경 ,  전의식

한국기계기술학회지

2015 .01

박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구

박정은 ,  홍혜권 ,  조영호 외 2명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2018 .11

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

염화제이철 수용액에 의한 스테인레스 강판의 식각에 관한 연구

이형민 ,  박무룡 ,  박광호 외 1명

화학공학

2012 .01

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

습식식각을 이용한 HfO₂ 박막의 식각특성

양정열 ,  황택성 ,  곽노석 외 2명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화

민철홍 ,  김태선 ,  강경우

전기전자재료학회논문지

2012 .01

Etching Behavior of Glass by Atmospheric Pressure Plasma with HF gas

Jong-Joo Rha ,  Hyun-Eui Lim ,  Wan-Doo Kim

대한기계학회 춘추학술대회

2011 .04

콜로이달 리소그래피를 이용한 초발수 표면 제작

임현의 ,  최경린 ,  김완두

대한기계학회 춘추학술대회

2008 .05

N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )

주병권 ,  이윤희 ,  김형곤 외 1명

전자공학회논문지

1989 .11

변형유기 식각 힐록 현상을 이용한 기계화학적 극세미 Writing 기법에 대한 연구

윤성원 ,  강충길

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2005 .07

HF Gas에 의한 Silicon Oxide층의 건식식각

김동석 ,  이상철 ,  최상대 외 2명

대한기계학회 춘추학술대회

2011 .11

반도체 공정중 연속적 산화-HF 식각-염기성 세정과정이 실리콘 기판 표면에 미치는 영향

박진구

한국재료학회지

1995 .01