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논문 기본 정보

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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제22권 제7호
발행연도
2005.7
수록면
71 - 78 (8page)

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The purpose of this study is to suggest a hyperfine maskless writing technique by using the nanoindentation and HF wet etching technique. Indents were made on the surface of Pyrex 7740 glass by the hyperfine indentation process with a Berkovich diamond indenter, and they were etched in 50 wt％ HF solution. After etching process, convex structure was obtained due to the deformation-induced hillock phenomena. In this study, effects of indentation process parameters (etching time, normal load, loading rate, hold-time at the maximum load) on the morphologies of the indented surfaces after isotopic etching were investigated from an angle of deformation energies. Finally, sample characters were written to show the possibility of the application.
#Maskless patterning(마스크리스 패터닝) #Nanoindentation(나노압입) #Deformation induced etch hillock(변형 유기 식각 융기) #Pyrex 7740 glass(보로실리케이트) #HF etching(불산 식각)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험 및 장비
3. 결과 및 고찰
4. 결론
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