나노 임프린트 리소그래피법에 의한 나노미터급 원기둥 패턴을 갖는 도광판의 제작 공정 개발

이병욱; 홍진수; 김창교

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이병욱 (순천향대학교) 홍진수 (순천향대학교) 김창교 (순천향대학교)

저널정보: 제어로봇시스템학회 제어로봇시스템학회 논문지 제어로봇시스템학회 논문지 제14권 제4호

발행연도: 2008.4

수록면: 332 - 335 (4page)

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PMMA light guiding plate with nano pattern was fabricated by nano imprint lithography method. A silicon mold for electroplating of nickel was fabricated by conventional photolithography process. A nickel stamp for nano imprint lithography was fabricated by electroplating process using silicon mold. The nano imprint lithography was performed on PMMA plate at 140℃ under pressure of 20kN. The nano pattern on PMMA plate was investigated using FE-SEM. It is shown that the patterns were well transferred for several steps and the nano imprint lithography method could be applied for fabricating patterns of light guiding plate.

#TFT-LCD #backlight unit #light guiding plate #nano imprint lithography

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