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저자정보
조재승 (한국산업기술대학교) 강형범 (프로톰) 윤혜진 (프로톰) 김효진 (프로톰) 임현우 (프로톰) 조시형 (한양대학교) 임실묵 (한국산업기술대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제46권 제3호
발행연도
2013.6
수록면
99 - 104 (6page)

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The simple and cost-effective microfabrication method of photosensitive glass (PSG) using metal patterning and blank exposure was proposed. Conventional photolithography for micromachining of PSG needs a costly quartz mask which has high transmittance as an optical property. However, in this study the process was improved through the combination of micro-patterned Ti thin film and blank UV exposure without quartz mask. The effect of UV exposure time as well as the DHF etching condition was investigated. UV exposure test was performed within the range from 3 min to 9 min. The color and etch result of PSG exposed for 5 min were the most clear and effective to etch more precisely, respectively. The etching results of PSG in diluted hydrofluoric acid (DHF) with a concentration of 5, 10, 15 vol% were compared. The effect on the side etch was insignificant while the etch rate was proportional as the concentration increased. 10 vol% DHF results not only high etch rate of 75 μm/min also lower side etch value after PSG etching. This method facilitates the microfabrication of PSG with various patterns and high aspect ratio for applying to advanced applications.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 실험 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (16)

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