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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2011.9
- 수록면
- 1 - 36 (36page)
- DOI
- 10.34122/jip.2011.09.6.3.1
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Once a court enters a final judgment in the case, the final judgement is not to be reviewed again. However, the retrial(new trial) which is a recurrence of a court case may occur on the grounds of a serious defect in the original trial. Especially, the patent validity may be considered in the civil court and the patent court at the same time, and there are odds to be discrepancy between two court in Korea. This paper reviews several cases of retrial in the field of patent infringement as well as the corresponding practices in the United States, Japan, and Germany. Furthermore, this paper seek for the way how to address the discrepancy between above two courts thorough the retrial system.
목차
국문초록
I. 서론
II. 재심(再審)
III. 특허침해소송과 재심
IV. 외국의 사례
V. 결론
참고문헌
Abstract
참고문헌 (19)
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