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ECR 플라즈마 CVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성
대한전자공학회 학술대회
1995 .06
ECRPCVD 방법으로 증착한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 광학 및 전기적 특성에 관한 연구 ( A Study on the optical and Electrical Characteristics of Hydrogenated Amorphous Silicon Films Prepared by ECRPCVD )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
Plasma deposited silicon thin films for next generation photovoltaics
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2015 .06
ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착
한국표면공학회지
1990 .12
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
열선 CVD법에 의한 수소화된 미세결정 실리콘 박막 증착
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
붕소 도핑된 수소화 비정질 실리콘 박막의 광도전 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1987 .07
수소화된 비정질 실리콘의 전기적 , 광학적 특성 및 그 응용 ( Photoconductive propertics of hydrogenated amorphous silicon film and its application )
대한전자공학회 학술대회
1988 .11
플라즈마 화학증착법으로 제조된 수소화된 비정질 탄화실리콘 박막의 전기 및 광학특성에 대한 붕소의 도핑효과
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
수소화된 비정질 실리콘 박막의 광도전성 ( The Photoconductivity of Hydrogenated Amorphous Silicon )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
평판 표시기를 위한 수소화된 비정질실리콘 박막트랜지스터의 제작 ( Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Thin-Film Transistors for Flat Panel Display )
전자공학회논문지
1987 .05
붕소 도핑된 수소화 비정질 실리콘 박막의 광도전 특성 ( Photoconductive Properites of B-doped Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
수소화된 비정질 실리콘 n+ -p -p+ 태양전지에서 최적 기판온도의 결정 ( Optimum Substrate Temperature for Hydrogenated Amorphous Silicon n+ -p -p+ Cells )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
실리콘 산화막을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막트랜지스터 제작 ( Fabrication on Amorphous Silicon Thin Film Transistors Using the SiO2 Film )
전자공학회논문지-A
1992 .05
비정질 실리콘 박막 증착용 고밀도 플라즈마 화학 증착장비
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2003 .01
Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구 ( Fabrication and Characterization of a-Si : H Films by a Remote Plasma Enhanced CVD )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
Hot Wire CVD법에 의한 수소화된 미세결정 실리콘 ( λc-Si : H ) 박막 증착 ( The Hydrogenated Micro-crystalline Silicon ( λc-Si : H ) Films Deposited by Hot Wire CVD Method )
전자공학회논문지-SD
2000 .08
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