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이용수
Abstract
1. 서론
2. ArF Excimer Laser CVD에 의한 비정질 실리콘의 형성
3. 시료의 제작 및 측정
4. 결과 및 고찰
6. 결론
참고문헌
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대한전자공학회 학술대회
1993 .07
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대한전자공학회 학술대회
1993 .07
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대한전자공학회 학술대회
1989 .07
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대한전기학회 학술대회 논문집
1990 .11
CO₂ Laser-induced CVD법에 의한 Silicon 박막 및 p-n접합 Silicon제작
대한전기학회 학술대회 논문집
1989 .11
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대한전자공학회 학술대회
1990 .11
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대한전자공학회 학술대회
1990 .11
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대한전자공학회 학술대회
1989 .11
Laser CVD 법에 의한 절연막의 국소선택적 형성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1992 .06
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대한전자공학회 학술대회
1992 .07
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전기학회논문지
1993 .09
Laser CVD에 의한 SiO2막의 형성과 제특성 ( Formation and Properties of Silicon Dioxide Film by Laser-Chemical Vapor Deposition )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
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대한전자공학회 학술대회
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대한전자공학회 학술대회
1991 .07
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대한전자공학회 학술대회
1995 .06
광 CVD법으로 제작한 비정질 실리콘 태양전지의 p/i 계면의 in-situ 수소처리 효과
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
Laser CVD에 의한 Ta₂O₅ 형성과 그 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .07
공정 Simulation에 의한 Laser CVD SiO₂막 형성 기구 규명에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
Laser CVD에 의한 poly-Si 막의 퇴적 및 Laser etching 특성
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1996 .07
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한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
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