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Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1987 .07
RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIOx FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR
한국표면공학회지
1996 .12
새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )
대한전자공학회 학술대회
1989 .07
LOW-TEMPERATURE FORMATION OF HIGH-QUALITY ULTRA-THIN GATE OXIDE BY REMOTE PLASMA-ENHANCED CVD ( REMOTE PECVD ) PROCESS
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Plasma CVD 에 의한 DLC 박막 제작시 수소가스의 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .07
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
플라즈마 CVD에 의한 고전압 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제작
전기학회논문지
1994 .02
FA-CVD에 의한 미세결정질 실리콘 박막 제작 및 특성 ( Characterization and Fabrication of Microcrystalline Si Thin Films Prepared by FA-CVD )
전자공학회논문지
1990 .09
Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma CVD Process
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
RP-CVD로 제작된 고전계 효과 이동도 비정질 실리콘 박막 트랜지스터 ( High Mobility a-Si:H Thin Film Transistor Prepared by RP-CVD )
전자공학회논문지-A
1992 .06
ECR 플라즈마 CVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성
대한전자공학회 학술대회
1995 .06
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성 ( Amorphous Silicom Film Formation by Laser CVD )
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
3실 광 CVD법에 의한 고효율의 비정질 실리콘 태양전지 제작
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Control of plasma CVD films containing group IV nanoparticles
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
비정질 실리콘 박막 증착용 고밀도 플라즈마 화학 증착장비
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2003 .01
DC Plasma CVD 법에 의한 다이아몬드의 성장에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1993 .11
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