산화막 변화에 의한  p-MOSFET에서 게이트에 유기된 드레인 누설 ( GIDL ) 전류 ( GIDL Current Effects in p-MOSFET's by gate oxide variation )

정연식; 이용재

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 정연식 이용재

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술발표회 논문집 (부산/경남지부) 제3권 2호

발행연도: 1994.1

수록면: 14 - 17 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (7)

1995

피-모스에서 교류 스트레스 동안 게이트에 유기된 드레인 누설전류 ( Gate-Induced Drain Leakage Current During AC Stress with P-MOS Transistor )

정연식 , 배지철 , 이용재 한국통신학회 학술대회논문집 1995.11 학술대회자료

1994

p-MOSFET에서 동작상태 스트레스에 따른 게이트에 유기된 드레인 누설(GIDL) 전류의 효과

정연식 , 임재우 , 이용재 대한전자공학회 학술대회 1994.07 학술대회자료

p-MOSFET에서 동작상태 스트레스에 따른 게이트에 유기된 드레인 누설 ( GIDL ) 전류의 효과 ( The Effect of Gate-Induced Drain Leakage ( GIDL ) Current with On-state stress in p-MOSFETs )

정연식 , 임재우 , 이용재 대한전자공학회 학술대회 1994.07 학술대회자료

동작-스트레스에 의한 p-MOSFET에서 핫-캐리어 효과

정연식 , 권상수 , 임재우 외 1명 한국통신학회 학술대회논문집 1994.07 학술대회자료

산화막 변화에 의한 p-MOSFET에서 게이트에 유기된 드레인 누설 ( GIDL ) 전류 ( GIDL Current Effects in p-MOSFET's by gate oxide variation )

정연식 , 이용재 대한전자공학회 학술대회 1994.01 학술대회자료

드레인 전압변화 스트레스에 의한 P-MOSFET의 열화 특성 ( Degradation Characteristics of p-MOSFET's by Various Drain Voltage stress )

정연식 , 권상수 , 이용재 대한전자공학회 학술대회 1994.01 학술대회자료

동작-스트레스에 의한 P-Mosfet에서 핫-캐리어 효과 ( Hot-Carrier Effects in P-MOSFET's by on-Stress )

정연식 , 권상수 , 임재우 외 1명 한국통신학회 학술대회논문집 1994.01 학술대회자료

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주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학 공학 > 컴퓨터학

논문수 20 이용수 625

이용재

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주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학 공학 > 전기전자공학 > 정보통신공학

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고속용 p-MOSFET에서 NBTI 스트레스에 의한 GIDL 전류의 특성 분석

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낮은 누설전류를 위한 소스/드레인-게이트 비중첩 Nano-CMOS구조 전산모사

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