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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 결과 및 토의
Ⅲ. 결론
참고문헌
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The Trap Characteristics of SILC in Silicon Oxide for SoC
ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications
2004 .08
초박막의 N2O 어닐링한 터널링 산화막을 갖는 Flash Memory Cell의 SILC 특성 및 성능 ( Performance and SILC Characteristics of Flash Memory Cell With Ultra thin N2O Annealed Tunneling Oxide )
전자공학회논문지-D
1999 .10
GIDL과 SILC가 DRAM refresh 회로의 성능저하에 미치는 영향 ( The effect of GIDL and SILC on the performance degradation of the refresh circuit in DRAM )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
GIDL과 SILC가 DRAM refresh 회로의 성능저하에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
GIDL과 SILC를 고려한 DRAM refresh 회로의 설계가이드 라인 ( The effect of GIDL and SILC on the design guideline of the refresh circuit in DRAM )
한국통신학회논문지
1999 .12
실리콘 산화막의 전압 전류 특성
대한전자공학회 학술대회
2016 .06
박막 게이트 산화막을 갖는 n-MOSFET에서 SILC 및 Soft Breakdown 열화동안 나타나는 결함 생성
전자공학회논문지-SD
2004 .08
The Characteristic of Low Level Current in Silicon Oxide
대한전자공학회 학술대회
2013 .07
실리콘 산화막의 트랩 밀도에 관한 연구 ( A study on the Trap Density of Silicon Oxide )
전자공학회논문지-T
1999 .03
실리콘 산화공정에 대한 실험적 고찰 ( An Experimental Study on the Oxidation Process of Silicon )
전자공학회지
1979 .03
급속열산화법에 의한 실리콘 산화막의 특성 ( Characteristics of Silicon Oxide Films Grown by Rapid Thermal Oxidation )
전자공학회논문지-A
1991 .12
실리콘 산화막의 저레벨 누설전류에 관한 연구 ( A Study on the Low Level Leakage Currents of Silicon Oxides )
전자공학회논문지-T
1998 .06
실리콘 산화공정에 대한 실험적 고찰
대한전자공학회 학술대회
1978 .01
실리콘 산화공정에 대한 실험적 고찰
대한전자공학회 심포지엄 논문집
1978 .01
다결정 실리콘 / 다결정 실리콘 열산화막의 계면 거칠기를 개선하기 위한 새로운 산화 방법
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
The Passivation Properties with Various Annealing Condition of P-doped Poly-Silicon/Silicon Oxide/Crystalline Silicon Structure
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .04
자연 산화막이 다결정 실리콘 공정에 미치는 영향
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014 .05
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