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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험 및 측정
3. 결과 및 논의
4. 결론
참고문헌
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반응성 스퍼터링에서 산화 티타늄 박막의 성장 특성
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Electrical Characteristics of Titanium Silicided Shallow Junction
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Titanium과 Cobalt silicide의 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1989 .07
Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구
한국재료학회지
2007 .01
DC 반응성 스퍼터링된 TiN 박막의 구조적 및 전기적 특성 ( Structural and Electrical Properties of Reactively Sputtered Titanium Nitride Films )
전자공학회논문지-A
1992 .08
고상확산법, Co-sputtering법 및 이온선혼합법에 의해 제조된 실리사이드의 상전이에 관한 비교연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
급속 열처리 장치를 이용한 타이타늄 실리사이드 형성 ( Formation of Titanium Silicide by Rapid Thermal Aneal System )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
실리사이드 공정에 의해 제조된 아날로그용 다결정 실리콘 커패시터의 전기적 특성 변화 ( The Effects of Silicide Process on Electrical Properties in an Analog Polysilicon Capacitor )
전자공학회논문지-SD
2001 .01
Si기판에 주입된 As이온이 Titanium-Silicides 형성에 미치는 영향 - 1 - ( Effects of As Ions Implanted in Si Substrates on the Titanium-Silicides Formation )
전자공학회논문지
1989 .06
다결정 실리콘 기판 위에 형성된 나노급 니켈 코발트 복합살리사이드의 미세구조 분석
한국산학기술학회 논문지
2007 .04
코발트/니켈 적층구조 박막으로부터 형성된 복합실리사이드
한국재료학회지
2004 .01
코발트/니켈 복합실리사이드의 실리사이드온도에 따른 면저항과 미세구조 변화
한국재료학회지
2004 .01
MEMS 기술을 이용한 고온용 크롬실리사이드 열전대 센서의 제작
한국항공우주학회 학술발표회 초록집
2009 .11
Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가 ( Fabrication and Emission Characteristics of the Ti-Silicided Field Emitter Arrays )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가
대한전자공학회 학술대회
1997 .06
RTP를 사용한 타이타늄 실리사이드 형성의 공정 조절 ( Process Control of Titanium Silicide Formation Using RTP )
한국통신학회논문지
1990 .05
Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+-N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적 특성 ( Fabrication and Electrical Characteristics P+-N Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
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