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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 1997년도 추계종합학술대회 논문집 Vol.20 No.2
발행연도
1997.11
수록면
544 - 547 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (3)

1998

소자 분야 - 몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정
이재철 ,  오용호 ,  임성우 전자공학회논문지-D 1998.10 학술저널

1997

몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정
이재철 ,  오용호 ,  임성우 대한전자공학회 학술대회 1997.11 학술대회자료
몬테-칼로 기법을 사용한 포토마스크의 결상 왜곡 보정 ( Optical Proximity Correction of Photomask with a Monte-Carlo Method )
이재철 ,  오용호 ,  임성우 대한전자공학회 학술대회 1997.11 학술대회자료

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목차

요약
1. 서론
2. 광리소그래피에서의 결상 왜곡
3. 근접 효과 보장 프로그램
4. 프로그램 수행 결과의 예
5. 결론
참고문헌

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오용호 ,  이재철 ,  임성우 대한전자공학회 학술대회 1996 .11
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이재철 ,  오용호 ,  임성우 대한전자공학회 학술대회 1997 .11
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