Magnetic Flux Density Distributions and Discharge Characteristics of a Newly Designed Magnetized Inductively Coupled Plasma

Hee-Woon Cheong

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자료유형: 학술저널

저자정보: Hee-Woon Cheong (Seoul National University)

저널정보: 한국자기학회 Journal of Magnetics Journal of Magnetics Vol.20 No.4

발행연도: 2015.12

수록면: 360 - 365 (6page)

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Spatial distributions of magnetic flux density in a newly designed magnetized inductively coupled plasma (MICP) etcher were investigated. Radial and axial magnetic flux densities as well as the magnetic flux density on the center of the substrate holder were controllable by placing multiple circular coils around the etcher properly. The plasma density non-uniformity in M-ICP (25 Gauss) can be reduced (1.4%) compared to that in ICP (16.7%) when the neutral gas pressure was 0.67 Pa and a right-hand circularly polarized wave (R-wave) can be propagated in to the etcher by making magnetic flux density increases both radially and axially from the center of the substrate holder.

#M-ICP #plasma density #plasma density non-uniformity #R-wave

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[학술지(정기간행물)] - H. J. Lee / 1996 / / J. Vac. Sci. Technol. A 14 : 1007 ~

[학술지(정기간행물)] - S. Imai / 2008 / / J. Vac. Sci. Technol. B 26 : 2008 ~

[학술지(정기간행물)] - B. Wu / 2010 / / J. Appl. Phys 108 : 051101 ~

[학술지(정기간행물)] - F. Karouta / 2014 / / J. Phys. D : Appl. Phys 47 : 233501 ~

[학술지(정기간행물)] - A. C. Westerheim / 1995 / / J. Vac. Sci. Technol. A 13 : 853 ~

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