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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2015.11
- 수록면
- 4,080 - 4,085 (6page)
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High quality and productivity have been main subjects in semiconductor industries. Especially, the quality is emphasized on a furnace tool. The temperature control is a critical factor for the quality of a device. A furnace model was selected in this study to distinguish three types of the heat transfer in an ATM process. Mathematical analysis and thermodynamic classification were used to evaluate each ratio for three types of the furnace energy transfer. Accuracy of 97% was obtained by the numerical analysis using an ANSYS simulator. As a result, the total heat system of the furnace model was composed of the radiation of 95.543%, the conduction of 2.420% and the convection of 2.035%. Thus, it was realized that the heat flux of the furnace from the heat source to the wafer could be improved efficiently by increasing the emissivity of the quartz’ surface.
목차
Abstract
1. 서론
2. Furnace 장비 열전달 Model과 가정
3. 표면 온도 계산 과정 및 결과
4. 수치해석
5. 결론
참고문헌
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