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C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Investigations on electrical and optical properties of gradient AZO thin film deposited on flexible substrates
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma
한국분석과학회 학술대회
2024 .11
Characterization of AZO thin films grown on various substrates by using facing target sputtering system
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
High Work Function of AZO Fhin Films as Insertion Layer between TCO and p-layer and Its Application of Solar Cells
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Study on post-treatment for improving electrical conductivity and reliability of AZO film grown by CVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Periodic multi-textured glass surface morphologies with high transmittance and step coverage of AZO films
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Direct ablation of transparent AZO-Ag-AZO electrodes on glass substrate by optical fiber laser ablation
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Plasma-induced reaction at plasma-liquid and plasma-polymeric film interface by AC-driven atmospheric pressure plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
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