C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature

K. Takeda ,  Y. Fukunaga ,  T. Tsutsumi 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Investigations on electrical and optical properties of gradient AZO thin film deposited on flexible substrates

Dechun BA ,  Xiaojie LIU ,  Kun LIU 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim ,  KyuSung Heo

한국분석과학회 학술대회

2024 .11

Characterization of AZO thin films grown on various substrates by using facing target sputtering system

이창현 ,  손선영 ,  배강 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

High Work Function of AZO Fhin Films as Insertion Layer between TCO and p-layer and Its Application of Solar Cells

Junyoung Kang ,  Hyeongsik Pa ,  k 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Study on post-treatment for improving electrical conductivity and reliability of AZO film grown by CVD

Jung Sam KIM ,  Keon Woo YANG ,  Sung-Ku KWON

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2016 .08

Periodic multi-textured glass surface morphologies with high transmittance and step coverage of AZO films

Junyoung KANG ,  Shahzada Qama ,  HUSSAIN 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique

이호녕 ,  장해규 ,  이학승 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Direct ablation of transparent AZO-Ag-AZO electrodes on glass substrate by optical fiber laser ablation

Minyu YIN ,  Sang Bo KIM ,  Sang Jik KWON 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Plasma-induced reaction at plasma-liquid and plasma-polymeric film interface by AC-driven atmospheric pressure plasma

김태환 ,  이승환

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Ar/C₄F₆/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석

김수강 ,  양경채 ,  신예지 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma

Wang YIYU ,  Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma

정원녕 ,  이장재 ,  이영석 외 4명

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2021 .02

C₃F₆O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석

이호석 ,  양경채 ,  김두산 외 3명

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2017 .02