Plasma etching of gallium nitride at high temperature

Zecheng LIU ,  Keigo TAKEDA ,  Hi 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Effects of Chamber Wall Contamination Levels on Plasma Properties in Long-Term C₄F₈/Ar Plasma Deposition Processes

Woojin Pa ,  k ,  Sangjun Pa 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2024 .11

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma

정원녕 ,  이장재 ,  이영석 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Tomonaga-Luttinger liquid in the anisotropic triangular antiferromagnet Ca₃ReO₅Cl₂

Suheon Lee ,  Chanhyeon Lee ,  Chennan Wang 외 3명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2023 .05

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Etching for Vertical Sidewall Formation in TiO₂ Nanorods

Minsu Pa ,  k ,  Ilsun Yoon 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2022 .09

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim ,  KyuSung Heo

한국분석과학회 학술대회

2024 .11

Dynamics of inductive plasmas in Cl₂, O₂ and Cl₂/O₂ mixtures : quantitative diagnostics and numerical modelling

Daniil MARINOV ,  Mickael FOUCHER ,  And 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas

김희주 ,  김교운 ,  홍종우 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Damage - Free Layer Control of MoS2 Using Atomic Layer Etching

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Investigation of surface reaction mechanisms on etch of AZO thin films in high density plasma

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Synthesis of Iron Nitride on Fe Foils Using NH₄Cl

K. P. Shinde ,  M. Ranot ,  P. Z. Si 외 5명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2017 .11