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Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
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2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
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2018 .08
Characteristic analysis of HfO2 thin films deposited at low-temperature using direct plasma-enhanced atomic layer deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
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2018 .08
A Study of the Change in the Magnetic Anisotropy Depending on Deposition Conditions of Pt/Co/HfO thin Films
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2024 .05
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2018 .08
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2019 .08
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2016 .02
Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
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2019 .08
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2020 .05
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2021 .12
Transfer Characteristics Comparison of HfO₂ Al₂O₃ Deposited InGaZnO Thin Film Transistors
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Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
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2016 .08
딥러닝 기반 첨단분석법
물리학과 첨단기술
2023 .08
용액 공정을 통한 HfO2/ZrO2 구조 차이에 따른 Dielectric layer의 특성 변화 분석
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2016 .02
H₂O₂ effects of HfO₂ dielectric layers
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2017 .02
Analysis on interface trap density of MOS capacitor with Al-doped HfO₂ insulation layer
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2020 .02
XPS analysis method for reducing X-ray damage of organic film with high fluorine content
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2018 .02
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