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Gallium nitride nanoparticle synthesis using particle trapping method in non-thermal nitrogen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Gallium nitride MIS-HFETs for power switching applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Enhancement of Electrical Properties of GaN-based Devices by Atomic Layer Etching
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Electrically driven, highly efficient phosphor-free warm white light-emitting diodes based on gallium nitride dodecagonal structure
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Effect of gas content and treatment temperature on the characteristic of surface layers of Low Temperature Plasma Nitrided 316L austenitic stainless steel
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Characteristics of color centers on exfoliated hexagonal boron nitride when focused gallium-ion beam irradiated
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
C6F6를 이용한 Plasma 공정 중 회수 전후의 가스 및 Plasma 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
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