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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김남호 (한국생산기술연구원) 김은미 (한국생산기술연구원) 허기석 (한국생산기술연구원) 여인선 (전남대)
저널정보
대한전기학회 전기학회논문지 전기학회논문지 제65권 제12호
발행연도
2016.12
수록면
2,014 - 2,018 (5page)

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Transparent, conductive electrode films, showing the particular characteristics of good conductivity and high transparency, are of considerable research interest because of their potential for use in opto-electronic applications, such as smart window, photovoltaic cells and flat panel displays. Multilayer transparent electrodes, having a much lower electrical resistance than widely-used transparent conducting oxide electrodes, were prepared by using RF/DC magnetron sputtering system. The multilayer structure consisted of three layers, [NiInZnO(NIZO)/Ag/NIZO]. The optical and electrical properties of the multilayered NIZO/Ag/NIZO structure were investigated in relation to the thickness of each layer. The optical and electrical characteristics of multilayer structures have been investigated as a function of the Ag and NIZO film thickness. High-quality transparent conductive films have been obtained, with sheet resistance of 9.8 Ω/sq for Ag film thickness of 8 ㎚. Also the multilayer films of inserted Ag 8 nm thickness showed a high optical transmittance above 93% in the visible range. The electrical and optical properties of the new multilayer films were mainly dependent on the thickness of Ag insertion layer.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (10)

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2017-560-001890840