FIB를 이용한 니켈코발트 복합실리사이드 미세 배선의 밀링 가공

송오성; 윤기정

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자료유형: 학술저널

저자정보: 송오성 윤기정

저널정보: 한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제9권 제3호

발행연도: 2008.6

수록면: 615 - 620 (6page)

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저저항 배선층으로 쓰일 수 있는 선폭 0.5㎛， 70㎚ 높이의 폴리실리콘 패턴에 10 ㎚-Ni<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>(x-0.2， 0.6， and 0.7)의 금속 박막을 열증착법으로 성막하고 쾌속 열처리 (RTA) 온도를 700℃와 1000℃로 달리하여 실리사이드화 공정을 실시하여 상부에 니켈코발트 실리사이드를 형성시켰다. 이때의 미세구조를 확인하고 FIB (focused ion beam) 를 활용하여 저에너지 조건 (30㎸-10 ㎀-2 sec)에서 배선층을 국부적으로 조사하여 실리사이드 층의 선택적 제거 가능성을 확인하였다. 실험 범위내의 실리사이드화 온도 범위와 NiCo 상대 조성 범위에서 주어진 FIB 조건으로 선택적으로 저저항 실리사이드 층의 제거가 가능하였으나， 상대적으로 Co 함유량이 많은 실리사이드는 배선층 내부에서 기포가 발생하였으며， 이려한 기포로 인해 실리사이드 층만의 국부적 제거는 불가능하였다.

#salicide #silicide #FIB #milling #NiCo composite

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1. [단행본] - Semiconductor Industry Association / 2004 / the international technology road map for semiconductors / Front End Process : 23 ~

2. [학술지(정기간행물)] - K. P. Liew / 2004 / / J. Mat. Res 19 : 2 ~

3. [학술지(정기간행물)] - B. A. Julies / 1999 / / Thin Solid Films 347 : 201 ~

4. [학술지(정기간행물)] - S. Y. Kim / 2007 / / Kor. J. Mat. Res 17 : 2 ~

5. [학술지(정기간행물)] - J. J. Sun / 1998 / Electron Device / IEEE Trans 45 : 1946 ~

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