Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process

Ji Young Song ,  Dong Chul Seo ,  Seung Duk Cho 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Synthesis of a New Photoresists Containing Silicon for ArF Eximer Laser Lithography

이해원 ,  김성수 ,  최영만 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

ArF Excimer Laser Lithography

Masa ,  u Sasago

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

A Study on the Preparation of Heat Shrinkable Polyethylene Film by Radiation

변형직 ,  김길정 ,  윤병목 외 1명

폴리머

1980 .05

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

SC-CSJ(Super Compacted-Cold Shrinkable Joint)의 거동해석

이양창 ,  이준성 ,  배병규 외 5명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2011 .06

Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer

고아람 ,  한수연 ,  송재환

BMB Reports

2016 .01

The effect of water-contact and evaporation on the roughness of photoresist for immersion lithography

안성일 ,  김재현 ,  진왕철

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Synthesis of ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization

손해성 ,  차상호 ,  이원기 외 5명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2008 .10

Block Copolymer Multiple patterning Integrated with Conventional 193 nm ArF Lithography

문정호 ,  박승학 ,  신동욱 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2010 .10

The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

Characteristics of $\gamma$-Irradiated Heat Shrinkable High Density Polyethylene

Kang ,  Phil-Hyun ,  Nho 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

Patterning Block Copolymer through Conventional 193 nm ArF Lithography and subsequent thermal flow

문정호 ,  박승학 ,  신동옥 외 4명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10