Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Synthesis of a New Photoresists Containing Silicon for ArF Eximer Laser Lithography

이해원 ,  김성수 ,  최영만 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

Non-shrinkable photoresists based on camphor for ArF lithography

김진백 ,  오태환 ,  허윤희

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

The effect of water-contact and evaporation on the roughness of photoresist for immersion lithography

안성일 ,  김재현 ,  진왕철

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

ArF Excimer Laser Lithography

Masa ,  u Sasago

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Photoresist reflow 공정을 이용한 자기정합 오프셋 poly-Si TFT

유준석 ,  박철민 ,  민병혁 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1996 .07

감광물질의 열적 reflow 를 이용한 MEMS 응용에서의 접합 공정

임성혁 ,  강현욱 ,  윤상열 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2011 .06

마이크로렌즈 어레이용 몰드 제작을 위한 Photoresist thermal reflow법에서 발생하는 형상 관련 오차 및 이에 대한 보정

김신형 ,  조영학 ,  김성만 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

Photoresist thermal reflow 공정을 통한 장초점 마이크로렌즈 어레이의 제작과 reflow 온도와의 관계

이준원 ,  오영탁 ,  조영학

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2019 .11

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Dynamics of ARF regulation that control senescence and cancer

고아람 ,  한수연 ,  송재환

BMB Reports

2016 .01

Synthesis of ArF photoresist by reversible addition-fragmentation chain transfer (RAFT) polymerization

손해성 ,  차상호 ,  이원기 외 5명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2008 .10

Block Copolymer Multiple patterning Integrated with Conventional 193 nm ArF Lithography

문정호 ,  박승학 ,  신동욱 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2010 .10

The Novel Water Developable Photoresist for Deep UV Lithography

정민호 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

Cu 박막의 reflow에 관한 연구

권인호 ,  김동원

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

Patterning Block Copolymer through Conventional 193 nm ArF Lithography and subsequent thermal flow

문정호 ,  박승학 ,  신동옥 외 4명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04