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학술저널
저자정보
Thu Thi Thuy Pham (Hongik University) Hyungsik Shin (Hongik University) Eugene Chong (Agency for Defense Development) Ho-Young Cha (Hongik University)
저널정보
대한전자공학회 JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE Journal of Semiconductor Technology and Science Vol.18 No.5
발행연도
2018.10
수록면
645 - 649 (5page)
DOI
10.5573/JSTS.2018.18.5.645

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Typical gallium nitride (GaN) PIN avalanche photodiodes (APDs) are fabricated using a beveled mesa structure due to the difficulty of the ion-implantation process for GaN. The bevel angle of mesa structure must be very small in order to suppress the localized electric field at the junction sidewall that limits the maximum APD gain. In this study, we proposed a double-step mesa structure that can suppress the high electric field at the junction sidewall while maximizing the electric field strength inside the active region under the avalanche bias condition.

목차

Abstract
I. INTRODUCTION
II. EXPERIMENTS AND DISCUSSION
III. CONCLUSIONS
REFERENCES

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