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저널정보
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제20권 제8호
발행연도
2007.1
수록면
701 - 705 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (6)

2019

디스플레이 확산 방지층 응용을 위한 비대칭 마그네트론 스퍼터로 증착된 질화 티타늄 박막의 특성에 대한 연구
박용섭 전기전자재료학회논문지 2019.01 학술저널

2013

비대칭 마그네트론 스퍼터링으로 증착된 Ti가 도핑된 다이아몬드상 탄소박막의 트라이볼로지 특성
박용섭 ,  이수호 ,  이재형 한국진공학회 학술발표회초록집 2013.08 학술대회자료
비대칭 마그네트론 스퍼터링 방법으로 TiC 박막의 트라이볼로지 특성에 미치는 기판온도 영향
박용섭 ,  서문수 ,  홍병유 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2013.02 학술대회자료
비대칭 마그네트론 스퍼터링 방법으로 제조된 TiC 박막의 기판온도 영향
박용섭 ,  이재형 전기학회논문지 2013.02 학술저널

2012

비대칭 마그네트론 스퍼터링 장치에 의한 Ti 나노금속 함량에 따른 탄소박막의 물리적, 전기적 특성
박용섭 ,  이종덕 ,  황현석 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 2012.02 학술대회자료

2007

비대칭 마그네트론 스퍼터링법에 의한 비정질 질화탄소 박막의합성 및 윤활 특성
박용섭 ,  조형준 ,  최원석 외 1명 전기전자재료학회논문지 2007.01 학술저널

초록· 키워드

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The incorporation of N in a-C film is able to improve the friction coefficient and the adhesion to various substrates. In this study, a-C:N films were deposited on Si and steel substrates by closed-field unbalanced magnetron (CFUBM) sputtering system in Ar/N2 plasma. The lubricant characteristics was investigated for a-C:N deposited with total working pressure from 4 to 7 mTorr. We obtained high hardness up to 24 GPa, friction coefficient lower than 0.1 and the smooth surface of having the extremely low roughness (0.16 nm). The physcial properties of a-C:N thin film are related to the increase of cross-linked sp2 bonding clusters in the film. However, the decrease of hardness, elastic modulus and the increase of surface roughness, friction coefficient with the increase of N2 partial pressrue might be due to the effect of energetic ions as a result of the increase of ion bombardment with the increase of ion density in the plasma.
#a-C:N #Amorphous carbon nitride) #CFUBM #Closed-field unbalanced magnetron) sputtering #Hardness #Friction coefficient #Contact angle

목차

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