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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제5권 제3호
발행연도
1996.9
수록면
263 - 267 (5page)

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CCl₂F₂, Ar, O₂ 가스를 사용하여 반응성이온 식각장치에 의한 백금박막의 건식식각특성에 대하여 연구하였다. 백금의 식각률은 전체압력이 낮아질수록, RF 전력이 증가할수록 증가하였으며, CCl₂F₂의 유량에 대해서는 거의 변화가 없었다. Ar가스의 첨가는 식각률의 저하를 가져왔으며, 20% 이내에서의 산소의 첨가는 백금의 식각률에는 영향을 주지 않았다. 백금과 감광막의 선택비는 압력이 낮아질수록, RF전력이 증가할수록 높아져 같은 두께의 감광막을 사용하여 보다 두꺼운 백금박막의 패터닝이 가능하였다. CCl₂F₂ 유량 20 sccm, RF 전력 400W, 전체압력 60mTorr의 조건에서 300Å/min의 식각률을 얻을 수 있었다.

목차

요약

Abstract

1. 서론

2. 실험방법

3. 결과 및 고찰

4. 결론

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