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펄스 플라즈마를 이용한 나노구조체의 식각 특성 향상을 위한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Pulsed Inductively Coupled Plasma를 이용한 Si nanostructure 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Si Fin etching using Cl₂/Ar Sync, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma
한국분석과학회 학술대회
2024 .11
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Development of methodology for Individual control of ion and radical in dual freqeuncy(13.56 ㎒ + 400 ㎑) pulsed Ar/CF₄/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges
Applied Science and Convergence Technology
2024 .09
Study on the Etching properties by using Inductively Coupled CF₄/C₄F8/O₂ & CF₄/CBr₂F₂/O₂ plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Atomic layer etching of SiO₂ with low-global warming potential C₄H₃F₇O isomers
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Effects of pulse modulation in Ar/H₂ inductively coupled plasma using fluid simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
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