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Koo, Hyun-Woo (OLED R&D Center, Samsung Mobile Display Co. LTD.) Maidanchuk, Ivan (OLED R&D Center, Samsung Mobile Display Co. LTD.) Jung, Jae-Wan (OLED R&D Center, Samsung Mobile Display Co. LTD.) Lee, Ki-Yong (OLED R&D Center, Samsung Mobile Display Co. LTD.) Berkeley, Brian H. (OLED R&D Center, Samsung Mobile Display Co. LTD.) Kim, Sang-Soo (OLED R&D Center, Samsung Mobile Display Co. LTD.)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
발행연도
2009.1
수록면
250 - 253 (4page)

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Effective methods for monitoring the quality of polycrystalline silicon (poly-Si) films are discussed. Raman spectroscopy is typically used to determine crystallinity of poly-Si, but this method has limitations for data gathering on large substrates for mass production of poly-Si TFT backplanes. Spectroscopic ellipsometry is proposed as an alternative for fast and simple estimation of poly-Si quality on large substrates. By using both ellipsometry and Raman spectroscopy, it is possible to determine whether the quality and uniformity of the poly-Si films meet the criteria required for mass production of TFT backplanes for AMOLED panels.

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