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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
이민정 (연세대학교 신소재공학부) 이동원 ([주]뉴파워플라즈마) 최대규 ([주]뉴파워플라즈마) 이태일 (연세대학교 신소재공학부) 명재민 (연세대학교 신소재공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회 학술발표대회 한국재료학회 2009년도 추계학술발표대회
발행연도
2009.1
수록면
491 - 491 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2011

High Power, High Frequency PECVD 로 증착한 SiNx:H 반사방지막의 화학적 조성 및 광학적 특성 평가
이민정 ,  박지현 ,  이동원 외 3명 한국재료학회 학술발표대회 2011.01 학술대회자료

2009

PECVD 증착 조건에 따른 SiNx:H 반사방지막의 구조적 및 광학적 특성
이민정 ,  이동원 ,  최대규 외 2명 한국재료학회 학술발표대회 2009.01 학술대회자료

초록· 키워드

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산업화 이후, 석탄 석유를 중심으로 한 화석연료가 이산화탄소를대량으로 배출하며 지구 온난화를 야기함에 따라, 석유를 대체할 새로운 에너지원에 대한 관심이 높아지고 있다. 많은 대체에너지 가운데, 청정하고 무한 재생 가능한대체에너지를 이야기할 때, 가장 큰 기대를 받고 있는 것은 태양에너지이며, 이에 보조를 맞춰 태양광 발전에 대한 연구개발이 국내외적으로 활발히 진행되고 있는 실정이다. 태양 전지는 빛 에너지를 직접 전기 에너지로 바꿔주는 소자로, 셀의효율을 높이기 위해서는 최대한 많은 빛을 흡수시킬 수 있는 것이 중요하다. 빛의 반사를 줄이는 방법에는 Texturing 과 Antireflecting coating 이있다. Antireflecting coating은 반도체와 공기의 중간 굴절율을 갖는 박막을 증착하여 측면 반사를 감소시킴으로서 빛의 손실을 감소시키는 역활을 한다. 반사 방지막으로 쓰이는 SiNx는 SiOx의 대체 물질로 굴절률이 약 1.5로서 Si에 쉽게 형성시킬 수 있고, texturing된 Si 표면에 적합하며 반사율을 10 %에서 2 %로 줄일 수 있다. 나아가 고성능의 반사방지막은 박막의 균일도확보 및 passivation 공정이 필수적이라 판단된다. 따라서 본 연구에서는 PECVD 방법으로 SiH4와 NH3 gas 의 비율을 변화시켜 증착한 SiNx 박막의 결정학적 특성을 X-ray Diffraction 분석과 TEM (TransmissionElectron Microsopy) 을 통해 관찰하였으며, XPS (X-rayphotoelectron spectroscopy) 를 통해 화학적결합을 확인하였고, 이를 FT-IR (Fourier Transform-Infrared spectroscopy)를 통해 관찰한 결과와 연관시켜분석하였다. 굴절율의 경우 Ellipsometry를 이용하여측정하였으며 위의 측정을 통하여 SiNx박막의 반사 방지막으로써의 가능성을 확인하였다.
#반사방지막 #SiNx:HCoating #PECVD

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