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자료유형
학술저널
저자정보
김덕재 (고등기술연구원 재료공정연구실) 이해룡 (고등기술연구원 재료공정연구실) 곽종구 (한국원자력연구소) 정우창 (부산대학교 금속공학과) 조영래 (부산대학교 금속공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제12권 제6호
발행연도
2002.1
수록면
447 - 451 (5page)

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Pulsed DC-plasma nitriding has been applied to form nitride layer having only a diffusion layer. The discharge current with the variation of discharge gases is proportional to the intensity of $N_2^+$ peak in optical emission spectroscopy during the plasma nitriding. The discharge current, microhardness in surface of substrate and depth of nitride layer increased with the ratio of $N_2\;to\;H_2$ gas in discharge gases. When the ratio of $N_2\;to\;H_2$ is lower than 60% in the discharge gases, high microhardness value of 1100Hv nitride layer which contains no compound layer has been formed.
#plasma nitriding #compound layer #diffusion layer #nitride layer

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