BCl및 BCl/Ar 고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaS 반도체 소자의 건식식각

임완태; 백인규; 이제원; 조관식; 전민현

추천

검색

자료유형: 학술저널

저자정보: 임완태 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) 백인규 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) 이제원 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) 조관식 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소) 전민현 (인제대학교 나노공학부/나노기술 응용연구소)

저널정보: 한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제13권 제10호

발행연도: 2003.1

수록면: 635 - 639 (5page)

이용수

📌

연구주제

📖

연구배경

🔬

연구방법

🏆

연구결과

이 논문의 연구 히스토리 (5)

2003

BCI₃ 기반 가스를 이용한 GaAs의 고밀도 평판형 유도결합 플라즈마 식각

임완태 , 백인규 , 유승열 외 5명 한국표면공학회지 2003.10 학술저널

BCl 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 건식식각

임완태 , 백인규 , 정필구 외 4명 한국재료학회지 2003.01 학술저널

BCl및 BCl/Ar 고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs와 AlGaS 반도체 소자의 건식식각

임완태 , 백인규 , 이제원 외 2명 한국재료학회지 2003.01 학술저널

$BCl_3$ 와 $BCl_3/Ar$ 유도결합 플라즈마에 따른 GaAs 건식식각 비교

임완태 , 백인규 , 이제원 외 2명 한국재료학회 학술발표대회 2003.01 학술대회자료

BCl3/Ne 혼합가스를 이용한 III-V 반도체의 고밀도 유도결합 플라즈마 식각

임완태 , 조관식 , 백인규 외 1명 전기전자재료학회논문지 2003.01 학술저널

이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
이 논문의 연구 히스토리 확인하기

초록· 키워드

오류제보하기

We investigated dry etching of GaAs and AiGaAs in a high density planar inductively coupled plasma system with BCl$_3$and BCl$_3$/Ar gas chemistry. A detailed etch process study of GaAs and ALGaAs was peformed as functions of ICP source power, RIE chuck power and mixing ratio of $BCl_3$ and Ar. Chamber process pressure was fixed at 7.5 mTorr in this study. The ICP source power and RIE chuck power were varied from 0 to 500 W and from 0 to 150 W, respectively. GaAs etch rate increased with the increase of ICP source power and RIE chuck power. It was also found that etch rates of GaAs in $15BCi_3$/5Ar plasmas were relatively high with applied RIE chuck power compared to pure 20 sccm $BCl_3$plasmas. The result was the same as AlGaAs. We expect that high ion-assisted effect in $BCl_3$/Ar plasma increased etch rates of both materials. The GaAs and AlGaAs features etched at 20 sccm $BCl_3$and $15BCl_3$/5Ar with 300 W ICP source power, 100 W RIE chuck power and 7.5 mTorr showed very smooth surfaces(RMS roughness < 2 nm) and excellent sidewall. XPS study on the surfaces of processed GaAs also proved extremely clean surfaces of the materials after dry etching.

#ICP #dry etching #GaAs #AlGaAs

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

참고문헌이 DBpia에서 서비스 중이라면, [참고문헌 신청]을 통해 등록해보세요

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!