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자료유형
학술저널
저자정보
이종무 (인하대학교 금속공학과) 박웅 (인하대학교 금속공학과) 전부용 (인하대학교 금속공학과) 전형탁 (한양대학교 금속공학과) 안태항 (한양대학교 금속공학과) 백종태 (한국 전자통신 연구소) 신광수 (포항산업과학연구원) 이도형 (포항산업과학연구원)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제8권 제8호
발행연도
1998.1
수록면
751 - 756 (6page)

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리모트 수소 플라즈마에 의한 Si 웨이퍼 표면 위의 Fe 불순물의 제거효과를 조사하였다. 세정시간 10분 이하와 rf-power 100W이하의 범위에서 최적 공정조건은 각각 1분과 100W이였으며, 플라즈마 노출시간이 짧을수록, rf-power가 증가할수록 Fe제거 효과가 더 향상되는 것으로 나타났다. 또한, 고압보다는 저압 하에서 Fe 제거효과가 더 우수하였는데, 저압 하에서는 $\textrm{H}_2$ 유량이 20sccm, 고압 하에서는 60sccm일 때 Fe 제거효과가 가장 우수하였다. 플라즈마 세정 직후의 열처리는 금속오염의 제거효과를 향상시켰으며, $600^{\circ}C$에서 최상의 효과를 얻을 수 있었다. AFM 분석결과에 의하면 표면 거칠기는 플라즈마 세정에 의하여 30-50% 향상되었는데, 이것은 Fe 오염물과 더불어 Si 표면의 particle이 제거된 데 기인하는 것으로 생각된다. 또한 본 논문에서는 수소 플라즈마에 의한 Si 웨이퍼 표면의 Fe 제거기구에 관해서도 자세히 고찰하였다.

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