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저자정보
Park, Kyung-Min (LTPS Team, LCD Business, Samsung Electronics Co.) You, Chun-Gi (LTPS Team, LCD Business, Samsung Electronics Co.) Kim, Chi-Woo (LTPS Team, LCD Business, Samsung Electronics Co.)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
발행연도
2005.1
수록면
303 - 306 (4page)

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We report the self-aligned low temperature poly silicon (LTPS) TFT process using simple doping process. In conventional LTPS-TFT, the Lightly Doped Drain (LDD) doping and source/drain doping are processed separately by aligning the gate with the source and drain during the gate lithography step. This ne w process not only fabricates fully self-aligned low temperature poly silicon TFTs with symmetric LDD structure but also simplifies the process flow with combined source/drain doping and LDD doping in one step. LDD doping process can be achieved using only source/drain doping process according to the new structure. In this paper, the TFT characteristics of NMOS and PMOS using the new doping process will be discussed.

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