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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Kwon, Yongchai (인하공업전문대학 화공환경과) Seok, Jongwon (중앙대학교 기계공학부) Lu, Jian-Qiang (포커스 센터-뉴욕 렌슬리어) Cale, Timothy S. (포커스 센터-뉴욕 렌슬리어) Gutmann, Ronald J. (포커스 센터-뉴욕 렌슬리어)
저널정보
한국화학공학회 화학공학 화학공학 제46권 제2호
발행연도
2008.1
수록면
389 - 396 (8page)

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벤조시클로부텐(benzocyclobutene; BCB)과 플라즈마 화학기상증착(PECVD)된 산화규소막이 코팅된 웨이퍼들 사이의 계면에서, 고온 열순환 공정에 의한 잔류응력 및 본딩 결합력의 효과를 4점 굽힙시험법과 웨이퍼 곡률 측정법에 의해 평가하였다. 이를 위해 웨이퍼들은 사전에 확립된 표준 본딩공정에 의거하여 본딩하였으며 이들 웨이퍼에 대한 열순환 공정은 상온으로부터 최대 순환온도 사이에서 수행하였다. 최대 온도 350 및 $400^{\circ}C$에서 수행한 열순환 공정에서, 본딩 결합력은 첫번째 순환공정 동안 크게 증가하는 데, 이는 순환공정 시 발생하는 산화규소막의 축합 반응에 의한 잔류응력 감소 때문인 것으로 분석되었다. 이러한 산화규소막의 잔류응력이 감소함에 따라 BCB와 산화규소막으로 구성된 다층막의 잔류응력에 의해 변형되는 에너지는 상승하였고 따라서 BCB와 산화규소막 사이 다층막의 의 본딩 결합력은 증가하였다.
#Bond Strength #BCB #PECVD $SiO_2$ #Thermal Cycling #Compressive Stress

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