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자료유형
학술저널
저자정보
Kim, Jeong-Gyun (Department of Energy Science, Sungkyunkwan University) Suh, Dongseok (Department of Energy Science, Sungkyunkwan University) Kang, Haeyong (Department of Physics, Pusan National University)
저널정보
한국초전도저온학회 한국초전도·저온공학회논문지 한국초전도·저온공학회논문지 제20권 제4호
발행연도
2018.1
수록면
20 - 25 (6page)

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Niobium nitride (NbN) superconducting thin films with the thickness of 100 and 400 nm have been deposited on the surfaces of silicon oxide/silicon substrates using a sputtering method. Their superconducting properties have been evaluated in terms of the transition temperature, critical magnetic field, and critical current density. In addition, the NbN films were patterned in a line with a width of $10{\mu}m$ by a reactive ion etching (RIE) process for their characterization. This study proves the applicability of the standard complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) process in the fabrication of superconducting thin films without considerable degradation of superconducting properties.
#niobium nitride #superconducting thin film #sputtering deposition #Ar Etching #Critical Temperature #critical field #critical current density

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