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자료유형
학술저널
저자정보
최세원 (한국생산기술연구원 광주연구센터) 고영호 (한국생산기술연구원 광주연구센터) 장세훈 (한국생산기술연구원 광주연구센터) 오익현 (한국생산기술연구원 광주연구센터) 강창석 (한국생산기술연구원 광주연구센터)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제17권 제4호
발행연도
2007.1
수록면
222 - 226 (5page)

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[ $SiO_2$ ]thin films containing Si-nanocrystals and $Er^{3+}$ were fabricated by the RF-sputtering method. Intense emission of $Er^{3+}$ was observed at 1530 nm region after the annealing of the film at $1050^{circ}C$ for 5 min. Channel waveguides were fabricated using such films for the core. The films containing Si higher than 2.4 at% exhibited the change in stress from compression to tension after annealing, which induced the fatal loss-increase in waveguide. The optical gain might be attained by the Er-doped waveguide with Si lower than 2.4 at% by a visible-light-excitation.
#Si #nanocrystals #$Er^{3+}$ #waveguide #annealing

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