개인구독
소속 기관이 없으신 경우, 개인 정기구독을 하시면 저렴하게
논문을 무제한 열람 이용할 수 있어요.
지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.2
- 수록면
- 192 - 192 (1page)
이용수
초록· 키워드
오류제보하기
SiO<sub>2</sub> 식각에 사용되는 CF<sub>4</sub>, c-C<sub>4</sub>F<sub>8</sub> 등의 perfluorocompound(PFC)는 global warming potential(GWP)가 높고 대기 중 생존 시간이 길어 환경에 유해하다. 따라서 GWP가 낮은 물질로 PFC를 대체하려는 연구가 진행되고 있다.<sup>1</sup> Perfluoroalkyl vinyl ether는 GWP가 낮고 대기 중 분해되기 쉬워 PFC ... 전체 초록 보기
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향
새물리
2020 .10
-
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
-
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
-
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
-
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
-
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
-
Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
-
Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
Low-Global Warming Potential Isomer Plasmas for Silicon Oxide Etching in Dual Frequency Superimposed Capacitively Coupled Plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
-
Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges
Applied Science and Convergence Technology
2024 .09
-
Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
-
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
-
OF₂/NH₃ 리모트 플라즈마를 이용한 실리콘 산화물 식각 공정
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
최근 본 자료
댓글(0)
0