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Selectively Dry Cleaning of Silicon Oxide using Cyclic Process
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
The comparison of end-point detection between optical emission spectroscopy and residual gas analysis in silicon etching in NF3/Ar Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Atomic Layer Etching of Tungsten using NF₃/O₂ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Effect of embedded pulse plasma on the etch of SiO₂ by varying the duty percentage
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
OF₂/NH₃ 리모트 플라즈마를 이용한 실리콘 산화물 식각 공정
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
Ar/NF3 혼합가스 Remote plasma source에서의 플라즈마 밀도 측정 및 Si/SiO₂ 식각률 측정
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Anisotropic Atomic Layer Etching of W by Fluorination-Oxidation Cyclic Process
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Cyclic Plasma Cleaning Process of SiO2 Layers using Surface Fluorination
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Cyclic Dry Cleaning Process of silicon oxide using OF₂/NH₃ Mixture Gas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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