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You Jin Ji (Sungkyunkwan University) Ki Hyun Kim (Sungkyunkwan University) Ji Eun Kang (Sungkyunkwan University) Seong Jae Yu (Sungkyunkwan University) Won Kyun Yeom (Sungkyunkwan University) Albert Rogers Ellingboe (Dublin City University) Dong Woo Kim (Sungkyunkwan University) Geun Young Yeom (Sungkyunkwan University)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021년도 한국표면공학회 추계학술대회
발행연도
2021.12
수록면
156 - 156 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2021

Characteristics of Silicon Nitride Deposited by Very High Frequency (162 MHz) -Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Floating Multi Electrode
You Jin Ji ,  Ki Hyun Kim ,  Ji Eun Kang 외 7명 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021.12 학술대회자료

2019

A Brief Review of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Si₃N₄
You Jin Ji ,  Ki Seok Kim ,  Ki Hyun Kim 외 2명 Applied Science and Convergence Technology 2019.09 학술저널

초록· 키워드

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본 연구에서는 초고주파 (162 MHz) 다전극형 플라즈마 소스를 이용해 SiN<SUB>x</SUB> PEALD 공정을 진행하고 증착된 SiN<SUB>x</SUB> 박막의 물리적, 전기적 특성을 평가하였다. 또한 다중 분할된 floating 전극이 플라즈마 전류로 인한 손상을 방지하는데 주는 효과를 확인하기 위해 단일전극 CCP를 이용한 PEALD 공정과 비교하였다. SiN<SUB>x</SUB> 박막 증착을 위한 ... 전체 초록 보기

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