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Reduction of Line Edge Roughness in Nano-Patterning via Combination Directed Self-assembly (DSA) and Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2023 .04
LER Reduction in EUV Lithography using DSA of Janus-Type Bottlebrush Polymers
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2023 .10
Synthesis and Lithography of Perfluoro-molecular Resists with High Tg under EUV Radiation
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2021 .04
EUV 리소그래피의 감광제 패터닝 공정에 대한 전산모사
대한기계학회 춘추학술대회
2018 .04
Interpretation of Line Edge Roughness in Extreme-Ultraviolet (EUV) Lithography using Molecular Simulations
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2019 .04
Reduction of LER in EUV Lithography Assisted by Block Copolymer Self-Assembly
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2022 .10
EUV 펠리클 투과도에 따른 이미지 전사 특성 분석
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
산의 분포 및 농도가 EUV 리소그래피 공정의 패턴에 미치는 영향: 멀티스케일 전산 모사 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2021 .08
물중탕을 이용한 대면적 SiNx EUV 펠리클 제작
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
Enhancing Micro-Pattern Interfaces in EUV Lithography through Molecular Dynamics Simulations of Acid Cleavable Moiety Introductions
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2023 .10
PAL-EUV 가속기 터널 공조 환경 정밀제어
한국유체기계학회 학술대회 논문집
2023 .12
Tin oxo cluster-based Hybrid Organic-Inorganic Photoresist for EUV Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2022 .04
EUV pellicle의 standoff 거리에 따른 이미지 전사 특성 평가
반도체디스플레이기술학회지
2016 .01
Mask Materials and Designs for Extreme Ultra Violet Lithography
Electronic Materials Letters
2018 .01
IrO₂ + TaO5 / Ti DSA 전극의 전기화학적 특성
한국에너지학회 학술발표회
2015 .11
Directed self-assembly (DSA) of performance materials)
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2016 .10
저사양 환경에서 ML-DSA 행렬 계산을 위한 메모리 관리 기법
한국통신학회 학술대회논문집
2025 .02
DSA 전극을 이용한 고농도 암모니아 질소폐수 처리 가능성 연구
한국에너지학회 학술발표회
2019 .10
중성빔 식각기술을 통한 EUV Resist의 손상 감소에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2021 .12
EUV 마스크 검사 장비의 회전 오정렬 보상을 위한 θz 스테이지 설계
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2023 .05
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