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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2024.9
- 수록면
- 603 - 609 (7page)
- DOI
- https://doi.org/10.1007/s13391-024-00487-y
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We report the enhanced thickness uniformity of chemical-vapor-deposited MoS 2 thin fi lms on SiO 2 substratesthrough substrate pre-treatment with O 2 plasma. Contact angle measurements indicated that the SiO 2 surface became morehydrophilic with an increase in surface energy after O 2 plasma pre-treatment. Analysis through Raman spectra and transmissionelectron microscopy measurements revealed that the thickness uniformity of MoS 2 thin fi lms improved over a centimeterscale after the O 2 plasma pre-treatment on SiO 2 substrates. Atomic force microscopy analysis further revealed that O 2plasma pre-treatment on SiO 2 substrates improved the uniformity of surface roughness in the MoS 2 thin fi lms. These resultsdemonstrate that O 2 plasma pre-treatment on SiO 2 substrates is an eff ective method of enhancing the thickness uniformityof MoS 2 thin fi lms, providing valuable insights for the advancement of large-scale synthesis of MoS 2 and related transitionmetal dichalcogenides.
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